بررسی و مقایسه مقاومت شیمیایی رزین پلی استر غیر اشباع بر پایه ترفتالیک اسید و رزین وینیل استر بر پایه بیس فنول آ در محیط شیمیایی مختلف

خواص رزین پلی استر غیر اشباع وابسته به نوع کربوکسیلیک اسیدها و گلیکول های مورد استفاده و همچنین درصد نسبی آنها است . با تغیر هر یک از آنها می توان خواص شیمیایی و مکانیکی رزین را بهبود بخشید. رزین های وینیل استر خواص چقرمگی و مقاومت شیمیایی بسیار بهتری نسبت به رزین های پلی استر دارند. تغییر شکل حرارتی بالا و استحکام چسبندگی خوب از دیگر خواص این رزین ها می باشد. یکی از خواص ویژه و مهم پلیمر که به شدت به نوع مواد بکار رفته با گروه های عاملی مختلف وابسته است ، مقاومت شیمیایی در محیط اسیدی ، بازی و نمکی می باشد. داده های بدست آمده نشان می دهد رزین وینیل استر بر پایه بیس فنول آ دارای مقاومت فوق العاده ای در برابر محلول سود جوشان با غلظت های مختلف و مدت زمان تماس متفاوت می باشد. درحالی که رزین بر پایه ترفتالیک اسید بطور کلی دارای مقاومت شیمیایی کمتری در محیط سود جوشان می باشد. با تغییر نوع گلیکول در رزین پلی استر بر پایه ترفتالیک اسید از مونو اتیلن گلایکول به مونو پروپیلن گلایکول خاصیت مقاومت شیمیایی بصورت چشمگیری بهبود پیدا کرد. مقاومت رزین وینیل استر بر پایه بیس فنول آ در محلول اسیدی مختلف و با مدت زمان تماس مختلف بسیار بالا می باشد و هیچ تغییری در ساختار نمونه های مورد بررسی ایجاد نشد. مقاومت شیمیایی رزین پلی استر بر پایه ترفتالیک اسید در محیط اسیدی هم به نوع اسید و هم به فرمولاسیون بستگی دارد. بیشترین مقاومت در محیط H۲SO۴ و کمترین آن در مخلوط اسیدهای H۲SO۴/HNO۳ بدست آمد. همچنین در رزین با فرمولاسیون مشابه با کاهش مقدار دی اتیلن گلایکول و افزایش مقدار مونواتیلن گلایکول مقاومت شیمایی در محیط اسیدی بهبود پیدا کرد. با افزودن دی اتیلن گلایکول به فرمولاسیون مقاومت شیمایی در محیط مخلوط اسیدهای H۲SO۴/HNO۳ بشدت بالا رفته و نمونه ها بدون تغییر باقی ماندند. نتایج آزمایش ها نشان داد با قرار گیری تمامی نمونه های رزین وینیل استر و پلی استری در مجاورت محلول نمکی جوشان NaCl تغیر قابل مشاهده ای در ساختار آنها ایجاد نکرد.