اصلاح سطحی غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون بروش پوشش دهی پلی دی متیل سیلوکسان جهت جذب دی اکسید کربن در تماس دهنده غشایی گاز - مایع

در این پژوهش غشاهای ریز متخلخل الیاف توخالی پلی سولفون PSF بروش جداسازی فازی تولید شده اند. سطح خارجی غشاها بروش پوشش دهی غوطه وری با پلی دیمتل سیلوکسان PDMS اصلاح شده است. ساختار و کارایی غشاهای تولید شده برای جذب CO۲ در تماس دهنده غشایی بررسی شده است. از گلیسرول بعنوان غیر حلال در محلول پلیمری و افزاینده سرعت جداسازی فازس برای تولید غشاهای بسیار متخلخل استفاده شده است. غشاها با آزمون های میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM تراوایی نتیروژن، فشار مرطوب شدن و زاویه تماس سطحی مشخصه یابی شده اند. تصاویر SEM نشان داد که غشاها دارای ساختار تقریبا بندانگشتی شکل اند. نتایج تست تراوایی گازی نشان داد غشاهای پوشش داده شده تراوایی نیتروژن کمتری دارند. غشای اصلاح شده با PDMS دارای اندازه متوسط حفره ۹ نانومتر و تخلخل سطحی m-۱ ۳۵ می باشند. آبگریزی سطحی غشای اصلاح شده بسیار افزایش یافته که زاویه تماس سطحی تقریبا ۱۱۸ درجه را نشان می دهد. بدلیل کوچک تر بودن حفره های سطحی و افزایش زاویه تماس، غشاهای اصلاح شده میزان فشار مرطوب شدن ۸ بار نشان دادند. نتایج تست جذب CO با اب در شرایط عملیاتی یکسان نشان داد که شار جذب غشاهای پلی سولفون اصلاح شده نسبت به غشاهای پلی وینیلیدن فلوارید PVDF تجاری بیشتر است غشای اصلاح شده دارای شار جذب تقریبی (فرمول درمتن اصلی مقاله) در سرعت مایع m/s ۰.۰۳ می باشد.

کلیدواژه ها:

غشای الیاف توخالی ، پلی سولفون ، پوشش دهی غوطه وری ، پلی دی متیل سلوکسان ، جذب دی اکسید کربن ، تماس دهنده غشایی