بررسی تاثیر نیتروژن ورودی در خواص نانومکانیکی فیلم نازک نیترید تانتالوم تولید شده به روش کندوپاش مغناطیسی واکنشی

سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 522

فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

SCMEMI13_233

تاریخ نمایه سازی: 6 بهمن 1395

چکیده مقاله:

امروزه نیترید تانتالوم به دلیل خواص بسیار مطلوبی که دارد، استفاده زیادی در صنعت پیدا کرده است. به دلیل دیرگداز بودن این فلز، بهترین راه برای ایجاد لایههای نازک از ترکیبات آن، استفاده از روش کندوپاش است. اما به دلیل تنوع فازی که در سیستم تانتالوم- نیتروژن وجود دارد،پوششهای نیتریدی تولید شده با این روش، گستره وسیعی از خواص مکانیکی را نشان میدهد. دراین پژوهش، با تغییر میزان نیتروژن در گازورودی به محفظه لایهنشانی، پوششهای مختلف ایجاد و خواص مکانیکی آن با استفاده از روش سختی سنجی نانو اندازه گیری شده و از آنالیز اشعه ایکس و میکروسکوپ الکترونی روبشی جهت مشخصه یابی فیلمهای نازک نیترید تانتلوم استفاده شد. در نتیجه این پژوهش مشخص شد که با افزایش درصد نیتروژن در گاز ورودی به محفظه لایه نشانی، نیترید تانتالوم از γ-Ta2N بهε-TaN و سپس به δ-TaN تغییر فاز داده که این موضوع سبب کاهش سختی و افزیش انرژی جذب شده در اثر تغییر فرم پلاستیک خواهد شد

نویسندگان

سیدسیاوش فیروزآبادی

دانشجوی مقطع دکتری دانشگاه امیرکبیر

ژینا رزاقی

دانشجوی مقطع کارشناسی دانشگاه امیرکبیر

کامران دهقانی

دانشیار دانشگاه امیرکبیر

مالک نادری

استادیار دانشگاه امیرکبیر

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • مین مایش علمی دانشجویی مهندسی مواد و متالورژی ایران مهرماه ...
  • . Nazon, J. Sarradin, V. Flaud, J.C. Tedenac, N. Frety, ...
  • properties of tantalum nitride thin films deposited by reactive sputtering, ...
  • E.L. a, G.J. b, X.C .b, Q.X. b, T.S. c, ...
  • D. Bernoulli, U. Miller, M. Schwa rzenberger, R. Hauert, R. ...
  • Y.M. Lua, R.J. Wengb, W.S. Hwangb, Y.S. Yangc, Study of ...
  • S.S. Firouzabadi, K. Dehghani, M. Naderi, F. Mahboubi, Numerical investigation ...
  • K. Radha krishnan, N.G. Ing, R. Gopa lakrishnan, Reactive sputter ...
  • C. Stampfl, A.1. Freeman, Stable and metastable structures of the ...
  • D.-k. Kim, H. Lee, D. Kim, Y.K. Kim, Electrical and ...
  • 5. Venkataraj, H. Kittur, R. Drese, M. Wuttig, M ulti-technique ...
  • H.N. Shah, R. Jayaganthan, D. Kaur, R. Chandra, Influence of ...
  • The _ Student Conference _ MetaIIurgical and Materials Engineering September ...
  • P.J. Kelly, R.D. Arnell, Magnetron sputtering: a review of recent ...
  • The _ Student Conference On MetaIIurgical and Mate rials Engineering ...
  • نمایش کامل مراجع